熒光光譜儀主要用途：
　　1.熒光激發(fā)光譜和熒光發(fā)射光譜2.同步熒光(波長(cháng)和能量)掃描光譜 3.3D(Ex Em Intensity) 4.Time Base和CWA(固定波長(cháng)單點(diǎn)測量)5.熒光壽命測量，包括壽命分辨及時(shí)間分辨 6.計算機采集光譜數據和處理數據(Datamax和Gram32)
　　類(lèi)別 指標
　　儀器類(lèi)別： 03030429 /儀器儀表 /成份分析儀器/X熒光譜儀
　　指標信息： 激發(fā)光源 Xe 450W激發(fā)單色儀：4nm/mm,200nm～700nm 發(fā)射單色儀：雙色單儀，2nm/mm,300～1000nm光譜測量范圍：240nm～850nm 靈敏度：水喇曼信噪比4000：1(397nm/5nm bandpass)壽命響應范圍：10ps～10μs
　　新型型號
　　x射線(xiàn)熒光光譜儀：
　　主要用途：儀器是較新型X射線(xiàn)熒光光譜儀，具有重現性好，測量速度快，靈敏度高的特點(diǎn)。能分析F(9)～U(92)之間所有元素。樣品可以是固體、粉末、熔融片，液體等，分析對象適用于煉鋼、有色金屬、水泥、陶瓷、石油、玻璃等行業(yè)樣品。無(wú)標半定量方法可以對各種形狀樣品定性分析，并能給出半定量結果，結果準確度對某些樣品可以接近定量水平，分析時(shí)間短。薄膜分析軟件FP-MULT1能作鍍層分析，薄膜分析。測量樣品的zui大尺寸要求為直徑51mm,高40mm.
　　儀器類(lèi)別： 0303040903 /儀器儀表 /成份分析儀器/熒光光度計
　　指標信息：1.發(fā)射源是Rh靶X光管，zui大電流125mA，電壓60kV，zui大功率3kW 2.儀器在真空條件下工作，真空度<13pascals3.5塊分析晶體，可以分析元素周期表F～U之間所有元素，含量范圍是ppm～100%4.分析軟件是Philips公司(現為PANalytical)版軟件，既可作半定量，也可定量分析。精密度：在計算率N=1483870時(shí)，RSD=0.08% 穩定性計算率Nmax=6134524,Nmin=6115920,N平均=6125704,相對誤差為0.03%
　　附件信息： 循環(huán)水致冷單元，計算機 P10氣體瓶空氣壓縮機
　　應用對象
　　分析對象主要有各種磁性材料(NdFeB、SmCo合金、FeTbDy)、鈦鎳記憶合金、混合稀土分量、貴金屬飾品和合金等，以及各種形態(tài)樣品的無(wú)標半定量分析，對于均勻的顆粒度較小的粉末或合金，結果接近于定量分析的準確度。X熒光分析快速，某些樣品當天就可以得到分析結果。適合課題研究和生產(chǎn)監控。