ICP-MS 2000國產(chǎn)ICP-MS電感耦合等離子體質(zhì)譜儀的優(yōu)勢小結

• 一鍵式等離子體設計，優(yōu)化簡(jiǎn)便，重現性好
• 高溫等離子體屏蔽技術(shù)，靈敏度高，背景噪聲低
• 半導體制冷技術(shù)，控溫精確，去溶效果佳
• *活動(dòng)門(mén)接口技術(shù)，維護方便
• 二次離子偏轉設計理念，連續背景低
• 新型真空腔體結構，安全，方便維護
• 雙模式電子倍增檢測器，濃度動(dòng)態(tài)范圍寬

【實(shí)地考察后小結】

       1、建立了ICP-MS 2000的生產(chǎn)線(xiàn)，并建立了完備的應用實(shí)驗室，具有大批的應用實(shí)驗人員。他們歡迎客戶(hù)到實(shí)地考察測試樣品。已售出的幾套大部分均為客戶(hù)考察后做的購買(mǎi)決定。

  2、ICP-MS 2000國產(chǎn)ICP-MS電感耦合等離子體質(zhì)譜儀外形美觀(guān)，是公司推出的三套質(zhì)譜里外形*“養眼”的。

  3、ICP-MS 2000設計，尤其是分子泵的配置很高，可獲得更高的靈敏度和檢出限。

  4、實(shí)地考察后，用ICP-MS 2000測定 Si3N4中的鋁元素含量，可以輕松達到PPB級測定的要求，滿(mǎn)足元素痕量測定的要求，可與進(jìn)口產(chǎn)品媲美。

  5、全中文軟件，功能簡(jiǎn)潔易用，給客戶(hù)使用帶來(lái)方便。

  6、總體來(lái)看，作為中國個(gè)推出ICP-MS的廠(chǎng)家，并在實(shí)際測試中獲得了很高的靈敏度和優(yōu)秀的檢出限，已經(jīng)基本達到了ICP-MS可以實(shí)現痕量定量測定、準確、精密度高的要求。

技術(shù)參數

    質(zhì)量數量范圍：2~255 amu

    測量范圍：≥108

    靈敏度： Be≥2×106 ； In≥35×106 ； U≥30×106 單位（cps/mg/L）

    檢出限： Be≤10；In ≤2；U≤2 單位（ng/L）

    分辨率：0.6~0.8 amu

    信噪比：≥50×106

    背景噪音：≤2 cps（全質(zhì)量范圍）

    質(zhì)量軸穩定性：≤0.05 amu/24 h

    穩定性RSD： 短期≤3%；長(cháng)期≤4%

    氧化物離子：CeO+/Ce+≤3%

    雙價(jià)離子：69Ba2+/138Ba+ ≤3%

    同位素比：（107Ag/109Ag）≤0.3%

    豐度靈敏度：≤1×10-6低質(zhì)量端；≤5×10-7高質(zhì)量端