x熒光測厚儀的原理：

若一個(gè)電子由軌道游離，則其他能階的電子會(huì )自然的跳至他的位置，以達到穩定的狀態(tài)，此種不同能階轉換的過(guò)程可釋放出能量，即X-射線(xiàn)。因為各元素的每一個(gè)原子的能階均不同，所以每一元素軌道間的能階差也不同相同。 

 

原子的特性由原子序來(lái)決定，亦即質(zhì)子的數目或軌道中電子的數目，即特定的X-射線(xiàn)能量與原子序間的關(guān)系。K輻射較L輻射能量高很多，而不同的原子序也會(huì )造成不同的能量差。 

特定的X-射線(xiàn)可由比例計數器來(lái)偵測。當輻射撞擊在比例器后，即轉換為近幾年的脈波。電路輸出脈沖高度與能量撞擊大小成正比。由特殊物質(zhì)所發(fā)出的X-射線(xiàn)可由其后的鑒別電路記錄。 

使用X-射線(xiàn)熒光原理測厚，將被測物置于儀器中，使待測部位受到X-射線(xiàn)的照射。此時(shí)，特定X-射線(xiàn)將由鍍膜、素材及任何中間層膜產(chǎn)生，而檢測系統將其轉換為成比例的電信號，且由儀器記錄下來(lái)，測量X-射線(xiàn)的強度可得到鍍膜的厚度。 

 

在有些情況，如：印刷線(xiàn)路板上的IC導線(xiàn)，接觸針及導體的零件等測量要求較高 ,一般而言，測量鍍膜厚度基本上需符合下述的要求： 

1.不破壞的測量下具高精密度。 

2.極小的測定面積。 

3.中間鍍膜及素材的成份對測量值不產(chǎn)生影響。 

4.同時(shí)且互不干擾的測量上層及中間鍍膜 。 

5.同時(shí)測量雙合金的鍍膜厚及成份。 

而X-射線(xiàn)熒光法就可在不受素材及不同中間膜的影響下得到高精密度的測量。